純凈水設備是集成電路制造過程中不可或缺的基礎設施，其應用貫穿于整個生產環節。在集成電路行業，對水質的要求極為苛刻，因為任何微小的雜質都可能影響芯片的性能和良率。

在晶圓清洗階段，純凈水用于去除硅片表面的顆粒、金屬離子和有機物。這一過程需要超純水（電阻率≥18 MΩ·cm），以確保不會引入污染物。在光刻工藝中，純凈水用于稀釋光刻膠和沖洗顯影后的晶圓，避免殘留物導致電路圖形缺陷。在蝕刻和化學機械拋光（CMP）過程中，純凈水作為溶劑或沖洗劑，幫助維持工藝的穩定性和一致性。

除了直接生產應用，純凈水設備還用于支持廠務系統，如冷卻塔補水和蒸汽發生，防止設備結垢和腐蝕。隨著集成電路技術向更小制程（如5納米以下）發展，對純凈水水質的要求日益提高，推動了高效反滲透（RO）、電去離子（EDI）和超濾等技術的創新。

純凈水設備在集成電路行業扮演著關鍵角色，不僅保障了產品的高質量，還促進了技術進步和產業升級。